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搭載実験機器
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| 外観図 |
| 主要諸元 | ||||
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| サブシステム | コンポーネント | 諸 元 | ||
| 観察・計測部 | 三 次 元 流 速 計 測 系 |
ＣＣＤカメラ(３台) | 観察視野 | 直径28mm |
| 分解能 | 60μm | |||
| 照明 | 光源／出力 | ハロゲンランプ／100Ｗ | ||
| 側面観察CCDカメラ(１台) | 観察視野 | 33mm×44mm | ||
| 分解能 | 60μm | |||
| 赤外放射温度計測装置 | 計測範囲／分解能 | 0～100℃／0.1℃ | ||
| 検出波長域 | 8～12μm | |||
| 視野 | 34mm×46mm | |||
| 表面流速計測装置 | 光源 | 窒素パルスレーザ | ||
| 照射ビームパターン | 十字形(7mm×7mm,線幅0.9mm) | |||
| 観察視野 | 19mm×11mm | |||
| 分解能 | 12.4μm | |||
| 超音波流速計測装置 | 基本周波数 | 8MHz | ||
| 計測範囲／点数 | 最大0.32m/s／40点 | |||
| サンプリング周波数 | 25Hz | |||
| ＤＶＴＲ（５式） | 記録方式 | ディジタルコンポーネント方式（NTSC） | ||
| ＶＴＲ（１式） | 記録方式 | 8mm方式（NTSC） | ||
| 供試体部 | 液 柱 形 成 装 置 |
液柱形成部 | 液柱寸法 | 直径 28mm,高さ 20mm |
| 加熱ディスク | サファイアガラス／ITO膜蒸着ヒータ | |||
| 冷却ディスク | アルミニウム／ペルチェ素子 | |||
| 加熱冷却部 | 加熱温度／電力 | 80℃最大／100W最大 | ||
| 冷却設定温度 | 25℃ | |||
| 計測制御部 | 制御電子装置 | 温度制御方式 | PID制御方式 | |
| 温度センサー | ITO薄膜センサ及び極細Ｋ型熱電対 | |||
| 電源部 | バッテリ | 公称電圧／容量 | 28VDC／10 AH | |
| 種類 | Ni-Cd | |||
| 物理的特性 | 寸法 | 直径 715mm，高さ 800mm | ||
| 重量 | 約 140Kg | |||
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| 外観図 |
| 主要諸元 | |||
| サブシステム | コンポーネント | 諸元 | |
| 炉本体部 | 均熱炉 | 炉体数 | ６式 |
| 加熱方式 | 抵抗加熱（セラミックヒータ） | ||
| 炉内雰囲気 | 真空もしくは不活性ガス雰囲気 | ||
| 加熱温度 | ４００゜C～１６００゜C（高温炉） | ||
| ２００゜C～５００゜C（低温炉） | |||
| 温度均一性 | ± 4 ℃ | ||
| 冷却方式 | ヘリウムガス吹き付け冷却 | ||
| 冷却性能 | 約14℃/秒 | ||
| 計測制御部 | 計測制御装置 | 加熱制御方式 | PID制御方式 |
| 温度センサー | Ｋ型及びＷＲｅ型熱電対 | ||
| 温度計測点数 | 40点 | ||
| 電源部 | 炉用ドライバ | 供給電力 | 1000W/炉体（最大） |
| バッテリ | 公称電圧／容量 | 制御部用 28VDC／4AH | |
| 電気炉用 50VDC／4AH | |||
| 種類 | Ni-Cd | ||
| 物理的特性 | 寸法 | 直径 715mm，高さ 630mm | |
| 重量 | 約 143Kg | ||
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| 外観図 |
| 主要諸元 | |||
| サブシステム | コンポーネント | 諸 元 | |
| 培養細胞 ユニット部 |
培養細胞ユニット （２式） |
液注入/排出方式 | 培養容器の上面に配置したシリコーン膜を 空圧で変形させ液を注入/排出する |
| 細胞培養容器 | 培養面積／容積：直径45mm/約9cc | ||
| 数量：12個／ユニット | |||
| 刺激薬 | ３種類（培養液、刺激薬 ２種）／ユニット | ||
| 固定液 | １種類／ユニット | ||
| 培養液等回収容器 | 12個／ユニット | ||
| 廃液容器 | １個／ユニット | ||
| 駆動ガス供給ユニット | 低圧系統 | 液注入／排出機構駆動用(0.1気圧) | |
| 高圧系統 | 空圧バルブ駆動用(６気圧） | ||
| 作動ガス | 空気 | ||
| 温度制御部 | 定温制御機構 | 培養温度制御 | ヒータにより培養容器温度を約37℃に維持 |
| 試料冷却機構 | 固定試料冷却 | 液化炭酸ガスの気化熱を利用して細胞容器 を冷却し温度を20℃以下に保持す る | |
| 計測制御部 | 制御装置 | 温度制御方式 | PID制御方式 |
| 実験制御 | 実験シーケンス、各種電磁バルブ駆動制御 | ||
| 温度計測 | 培養容器温度を計測しメモリに蓄積 | ||
| 電源部 | バッテリ | 公称電圧／容量 | 28VDC／10AH |
| 種類 | Ni-Cd | ||
| 物理的特性 | 寸法 | 直径 715mm，高さ 410mm | |
| 重量 | 約 119Kg | ||
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| 外観図 |
| 主要諸元 | ||||
| サブシステム | コンポーネント | 諸 元 | ||
| 加熱部 | 単楕円型イメージ炉 | 主加熱源 | ハロゲンランプ | |
| 補助加熱源 | セラミックヒータ | |||
| 加熱温度 | 直径10mmのシリコン溶融(1430～1600℃) | |||
| 炉内雰囲気 | アルゴンガス雰囲気 | |||
| 観察部 | Ｘ 線 観 察 装 置 |
Ｘ線発生器（２式） | 最大管電圧／電流 | 70KV／100μA |
| 焦点材料／寸法 | タングステン／10μm | |||
| イメージインテンシファイア(２式) | 入力有効径 | ２インチ | ||
| ＣＣＤカメラ（２式） | 有効画素数 | 約38万画素 | ||
| ＤＶＴＲ（２式） | 記録方式 | ディジタル・コンポーネント方式（NTSC） | ||
| 実 体 観 察 系 |
ＣＣＤカメラ（１式） | 有効画素数 | 約40万画素 | |
| ＤＶＴＲ（１式） | 記録方式 | ディジタル・コンポーネント方式（NTSC） | ||
| 計測制御部 | コントロールボックス | 加熱制御方式 | シーケンス制御 | |
| 温度センサー | Ｒ型熱電対 | |||
| 電源部 | 炉用電源 | 供給電力 | 1300W（最大） | |
| バッテリ | 公称電圧／容量 | 28VDC／16AH | ||
| 種類 | Ni-Cd | |||
| 物理的特性 | 寸法 | 直径 715mm，高さ 630mm | ||
| 重量 | 約 119Kg | |||
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